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罐式炉

HWF-真空气氛罐式炉

文字:[大][中][小] 2024/3/13     浏览次数:    


典型应用

CIM/MIM脱脂处理、金属热处理行业、金属增材制造领域的退火、淬火、灼烧、除气、热分解、热力排胶、干燥等工艺。

参数及特点

◆ 额定温度:1000℃;

◆ 有效尺寸:400×400×650mm (W×H×D);

◆ 温度均匀性:±5℃;

◆ 600 ℃ 的真空热处理工艺;

◆ 气氛环境下最高1100℃热处理工艺;

◆ 氢气环境下的反应烧结工艺;

◆ 内部设有气体对流装置(≤ 900℃ ),提升炉膛内部温度及气氛的均匀性。

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